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加拿大28中国芯终见曙光?国产新一代光刻机呼之

更新时间:2021-10-15 11:56

  

  国产芯片之所以难以突破瓶颈,说白了就是因为在芯片制造以及芯片制造过程之中,所必要的关键设备光刻机上卡了脖子。

  芯片和系统是如今智能手机最核心的两个部分,鸿蒙在系统端有望打破安卓、IOS垄断的强势表现,也让人对其芯片端充满了信心。但残酷的现实我们还是不得不面对,由于缺少EUV光刻机,我们暂时还造不出“高端芯”,由于供货许可的限制,华为也没有办法获得代工厂加工的“高端芯”。

  令人振奋的是,关于国产先进光刻机有了最新的消息。据最新的报道,上海微电子即将推出新一代国产光刻机,其相当于是ASML的DUV光刻机,都是沉浸式的,预计下线量产时间是今年年底,最迟明年年初。

  另外,上海微电子新一代光刻机采用与ADML DUV光刻机一样的光源技术,这意味着其能够用于生产制造28nm到10nm之间的芯片。甚至还能够采用多重曝光技术生产7nm芯片,台积电就曾经用阿斯麦的DUV光刻机实现了7纳米的量产,在EUV光刻机投用之后,又推出了7纳米的EUV工艺。

  美国修改规则后,很多企业都不能自由出货,像美国的高通、英特尔、加拿大28谷歌以及美光等。以及采用了美国技术的芯片企业,像ASML、台积电、三星以及联发科等。

  要知道,虽然ASML是光刻机领域的老大。但是中国市场也是ASML的重要客户之一。ASML一直希望能够恢复对华为的自由供货,奈何一直不被允许。此前ASML多次在公众场合表示,如果再不能进行自由出货,那么将会倒逼中国实现光刻机领域的自主崛起。

  在芯片领域,跨不过去的坎就是光刻机。在当今的光刻机领域,大部分的光刻机都是由荷兰的ASML、日本的佳能和尼康掌控,荷兰的ASML更是掌握着最先进的光刻机生产技术。美国限制ASML自由出货之后,对我们芯片产业造成了巨大的负面影响。加拿大28因而很多人终于意识到只有自己研发光刻机,将技术牢牢掌握在自己手里,才能彻底摆脱卡脖子的困境。

  果不其然,这不,上海微电子新一代光刻机就传来了好消息。所以说ASML果然没说错!

  既然上海微电子的新一代光刻机设备即将问世,那么是不是意味着我们可以很快生产国产芯片了?

  对此,有院士给出了时间表,大概是1-2年的时间,也就是说,上海微电子的新一代光刻机下线年就能够组建纯国产的芯片生产线。

  不过我们还是要保持理智和清醒,那就是短期内我们并不能实现国产芯片自主化,尤其是高端芯片的国产化。设备上的实现国产化只是突破的第一步,况且目前制造“高端芯”的EUV光刻机和DUV光刻机还是有很大区别的。

  另外,光刻机只是半导体前道7大工艺环节之一,虽说很重要,但离开了其它6个环节中的任何一个都不行。至于这7大工艺,有“三大”+“四小”之分,其中“三大”占据75%比例,指光刻、刻蚀、沉积工艺;“四小”则占据剩余的25%比例,指清洗、氧化、检测和离子注入。其中光刻工艺占比成本投资的比例为30%。因此仅仅认为有了国产光刻机,就能实现国产芯片自主化,这是不现实的。

  但不管怎样,迈出了第一步,才有接下来的每一步,相信在不久的将来,国内就将实现对高端芯片国产化的攻克。

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